Lanxess朗盛Lewatit UltraPure 1296 ion exchange resin离子交换树脂IER 文案 2：半导体极紫外光刻（EUV）超纯水适配方案

 

Lanxess朗盛Lewatit UltraPure 1296 ion exchange resin离子交换树脂IER  文案 2：半导体极紫外光刻（EUV）超纯水适配方案

       极紫外光刻（EUV）是半导体先进制程核心技术，对超纯水纯度要求达到行业顶峰，微量杂质即可导致光刻缺陷，Lanxess朗盛Lewatit UltraPure 1296 为 EUV 光刻超纯水系统提供核心保障LANXESS。树脂可将水中 TOC 控制在≤1.0ppb、金属离子≤0.1ppt、硼≤1ppb、硅≤1ppb，出水纯度完全满足 EUV 光刻设备冷却、清洗、工艺用水标准LANXESS。在半导体 EUV 光刻、先进封装、纳米制造中，Lanxess朗盛Lewatit UltraPure 1296 解决传统超纯水树脂纯度不达标、杂质波动大的难题，保障 EUV 设备稳定运行与光刻良率LANXESS。其化学稳定性与抗污染能力极强，长期运行性能无明显衰减，减少 EUV 系统停机维护频次LANXESS。